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上海集成電路材料研究院采用創(chuàng)新范式提高光刻材料研發(fā)效率

時間:2022-08-14 14:58   閱讀量:8454   

這個由中國科學(xué)院上海微系統(tǒng)與信息技術(shù)研究所和上海硅業(yè)集團有限公司聯(lián)合發(fā)起的研究院,致力于襯底材料和工藝材料的研發(fā)和產(chǎn)業(yè)化,積極開展面向企業(yè)和產(chǎn)業(yè)化需求的技術(shù)研究。

例如,該所針對拋光墊,拋光液材料性質(zhì),拋光壓力,拋光溫度,拋光液流量等拋光工藝對大硅片平面度的影響,開發(fā)了一整套大硅片拋光液由該研究所技術(shù)建立的上海錢新集成電路有限公司第一個CMP拋光墊已正式出樣

在光刻材料研發(fā)方面,該所采用創(chuàng)新范式提高材料研發(fā)效率,建立了光刻材料基因組該所以高通量材料制備平臺,短流程器件工藝平臺,高通量材料表征平臺,材料性能數(shù)據(jù)庫平臺和材料模擬計算平臺為支撐,與合作單位共同提高光刻材料的研發(fā),篩選,優(yōu)化和應(yīng)用效率

面對前沿的材料技術(shù),木材研究所和上海微系統(tǒng)公司資助的氮化鋁薄膜材料基因組計劃開發(fā)了具有嵌入式空腔的SOI襯底,并成功應(yīng)用于制作全封閉式環(huán)柵器件。

來源: IT之家 編輯: 安遠

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