對于芯片制造商來說，光刻機非常重要，ASML正在積極布局新技術(shù)據(jù)外媒報道，截至2022年第一季度，ASML已經(jīng)發(fā)運了136套EUV系統(tǒng)

根據(jù)官方聲明，新的EUV光刻機系統(tǒng)NXE:3600D的可用性將達到93%，這將使其更接近DUV光刻機。

資料顯示，NXE:3600D系統(tǒng)以30mJ/cm的速度每小時可生產(chǎn)160片晶圓，比NXE:3400C高出18%二是正在研發(fā)的NXE:3800E系統(tǒng)，初期將以30mJ/cm的速度提供195wph以上的容量，吞吐升級后將達到220wph

據(jù)介紹，NXE:3600E將在像差，重疊和吞吐量方面進行漸進式光學改進，而在0.33 NA的EUV光刻機領域，ASML路線圖包括在2025年左右推出吞吐量約為220wph的NXE:4000F。

對于0.55 NA的光刻機來說，需要更新的不僅僅是它的光刻機系統(tǒng)同時，還需要在光掩模，光刻膠層壓和圖案轉(zhuǎn)移工藝等方面齊頭并進，以使新設備的應用成為可能

根據(jù)ASML在第一季度財務會議上披露的數(shù)據(jù)，公司的目標是在2022年出貨55臺EUV系統(tǒng)，到2025年實現(xiàn)90臺工具的計劃ASML也承認，2025年90臺可能會超過實際需求，但他們形容這是為了滿足2030年1萬億美元半導體行業(yè)的需求而付出的巨大努力

按照之前的說法，ASML正在研發(fā)一款價值4億美元的新型光刻機，雙層巴士體積龐大，重量超過200噸原型機預計2023年上半年完成，2025年首次投入使用，2026年至2030年主要出貨

這臺機器應該參考高NA EXE:5200英特爾是世界上第一家下訂單的公司所謂高NA就是高數(shù)值孔徑，2nm以后的節(jié)點都得靠它